您好!材料商城是溅射靶材,ITO靶材,真空镀膜材料,半导体材料等高纯材料的一站式购物平台!

溅射靶材的清洁

溅射靶材 2020-06-23 20:34

靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。金属靶材可以通过四步清洁:

高纯硼材料

第一步用在丙酮中浸泡过的无绒软布清洁;

第二步与第一步类似用酒精清洁;

第三步用去离子水清洗。在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。氧化物及陶瓷靶材的清洗建议用“无绒布”进行清洁。

铜背板

第四步用高压低水气的氩气冲洗靶材,以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质微粒。

——本文由材料商城整理发布,如有侵权,请联系删除,谢谢!材料商城有靶材ITO靶材真空镀膜材料半导体材料高纯材料。材料齐全,专业生产,可按需定制,价格实惠,欢迎咨询,材料商城竭诚为您服务!

本文链接:https://www.atozmat.com/arc/1774.html 转载请注明出处,谢谢!

上一篇:靶材的种类及应用领域介绍

下一篇:靶材市场的发展概括