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定制平面铌靶材_真空镀膜用高纯铌靶材

溅射靶材 2020-08-05 09:27

定制平面铌靶材_真空镀膜用高纯铌靶材

靶材名称:定制平面铌靶材真空镀膜用高纯铌靶材

产 地:上海

材 质:Ni

纯 度: 99.99%

密 度:8.57g/cm³

晶粒度:<100um

生产工艺:原材料-真空熔炼-锻造-铌锭-轧制-铌板成品。

靶材规格:根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工。

靶材优势:纯度高,杂质少,相对致密度高,晶粒均匀,一致性高。

应用领域:广泛应用于工业,电光源,发热体和隔热罩的电真空设备等。

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