定制平面铌靶材_真空镀膜用高纯铌靶材

靶材名称：定制平面铌靶材真空镀膜用高纯铌靶材

产 地：上海

材 质：Ni

纯 度: 99.99%

密 度：8.57g/cm³

晶粒度：<100um

生产工艺：原材料-真空熔炼-锻造-铌锭-轧制-铌板成品。

靶材规格：根据用户需要进行定制，来样加工，来图加工。

靶材优势：纯度高，杂质少，相对致密度高，晶粒均匀，一致性高。

应用领域：广泛应用于工业，电光源，发热体和隔热罩的电真空设备等。

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