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靶材溅射完后半边中毒发乌问题分析

溅射靶材 2020-06-06 19:53

 

问题:反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜,靶材是两英寸的,溅射气体为氩气,反应气体为N2,功率300W,射频电源,沉积了两个小时,完后取出靶一看出现了标题中所述的现象,是靶中毒还是其他什么原因,但为什么只有半边出现?

原因分析1:可能与射频电源的引入有关

原因分析2:这么小的靶,两英寸?冷却均匀么

原因分析3:这么小的靶还加300W的功率,冷却跟得上吗?怀疑是冷却不好,造成半边发乌!

原因分析4:冷却不够。温度太高了吧

原因分析5:可能跟功率过高有关,我直径60的靶功率只敢加到100W左右

原因分析6:两小时中电源稳定吗?可能是能量太高,也可能是靶的一边碰到接地的部件了

原因分析7:疑似气密性有问题,个人认为

解决意见1:建议1)检查气体均匀性;2)是否一侧有漏气?

解决意见2:建议去做个XPS分析,或是再重新做一遍实验看看。

总结:综合上述分析的原因,导致靶材中毒发乌的主要原因是温度过高、电源不稳定、气体均匀性及气密性。检查这些可能的主要原因,一步一步排除解决。

 

旋转ITO铜背板

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