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真空溅射镀膜靶材_Ta1高纯钛靶材

溅射靶材 2020-06-28 17:33

真空溅射镀膜靶材_Ta1高纯钛靶材

靶材名称:真空溅射镀膜靶材 Ta1高纯钛靶材

材 质:钛

纯 度:99.95%—99.999%

晶 粒 度:<100um

应用领域:半导体、LCD、太阳能行业等

靶材优点:质量可靠,价格优惠,真空熔炼,设备提纯,纯度高,杂质少,轧制致密,氧化少,成型可塑,相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

靶材用途:钛能与铁、铝、钒或钼等其他元素熔成合金,造出高强度的轻合金,在各方面有着广泛的应用,包括航天(喷气发动机、导弹及航天器)、军事、工业程序(化工与石油制品、海水淡化及造纸)、汽车、农产食品、医学(义肢、骨科移植及牙科器械与填充物)、运动用品、珠宝及手机等等。是良好的耐火金属材料。钛粉在烟火制造上用于提供明亮的燃烧颗粒。

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