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真空离子镀材料铬靶材_高纯精加工平面铬靶材

溅射靶材 2020-07-16 16:10

真空离子镀材料铬靶材_高纯精加工平面铬靶材

靶材名称:真空离子镀材料铬靶材 高纯精加工平面铬靶材

产 地:上海

材 质:Cr

纯 度:99.95%

晶粒度:<100um

工艺:热轧,冷轧,酸洗,剪切而成。

应用领域:

主要用于STN、tft、Ai、TP等磁控溅射镀膜;也用于制不锈钢,汽车零件,工具,磁带和录象带。铬靶材主要用于工业级镀膜,实验或研究级别用铬靶材,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等。

靶材优点:

质量可靠,价格优惠

轧制致密,氧化少,成型可塑

相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

真空装填,提纯制备,纯度高,杂质少

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