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铌绑定平面靶材

溅射靶材 2020-07-29 16:15

铌绑定平面靶材

质量可靠,价格优惠,真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少,轧制致密,氧化少,成型可塑,相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高。

铌绑定平面靶材主要用于真空镀膜,实验或研究级别用铌靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等的生产。可根据客户需要进行定制,来样加工,来图加工。

金属铌靶材Nb99.999% (上海溅射靶材)
物理性质颜色灰白色金属
密度8.57g/cm³
熔点2468℃
技术指标纯度99.99%
相对致密度>99%
切面平整度3.2Ra
公差±0.1mm
晶粒度均匀
材质Nb
品牌ALLUTER
产地陕西 上海
产品规格规格01多弧靶材:直径<1000mm厚度>1mm
规格02矩形:长度:不限 宽度:不限 厚度:不限矩形/片材/台阶状(长宽可拼接)
规格03圆柱:外直径<420mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材)
规格04::颗粒球型,粉末型

规格05:根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工
少起订量1件,量大优惠
制作工艺真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工
产品用途真空镀膜,实验或研究级别用铌靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等


产品优点质量可靠,价格优惠
真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少
轧制致密,氧化少,成型可塑
相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高
产品附件正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票
包装方式真空包装


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