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真空镀膜用铌旋转靶材_铌溅射靶材_出厂价

溅射靶材 2020-07-08 12:21

真空镀膜用铌旋转靶材_铌溅射靶材_出厂价

靶材名称:真空镀膜用铌旋转靶材 铌溅射靶材 出厂价

材质:铌

纯度:99.95%

晶粒度:<100μm

生产工艺:热轧,冷轧,碱洗,剪切而成

靶材应用:微电子领域、硅片制造、平面显示器、存储技术领域。

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