半导体用超高纯金属溅射靶材有哪些？

　　半导体用超高纯金属溅射靶材有哪些？高纯材料商城为您介绍。

　　高纯铝以及铝合金靶材：

　　1、产品包括：Al、Al30ppmSi,、Al0.5Si、Al0.75Si、Al0.8Si、Al1Si、Al0.5Cu、AlSiCu等;

　　2、纯度为4N~5N5;

　　3、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求;

　　4、能够和客户一起开发特制的各种类型长寿命靶材。

　　高纯钛靶材以及钛环：

　　1、产品包括：4N5钛、5N钛、低氧钛等;

　　2、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求;

　　3、能够为客户提供不同类型特制的长寿命靶材和环件。

　　高纯铜、铜合金靶材以及铜环、铜阳极：

　　1、产品包括：4N铜、4N5铜、5N铜、6N铜以及铜铝等合金靶材、纯铜以及CuP阳极材料、纯铜的环件;

　　2、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求;

　　3、能够为客户提供不同类型特制的长寿命靶材和阳极材料。

　　高纯钽、钽合金靶材以及钽环：

　　1、产品包括：3N5到5N的各种纯度钽靶材、钽环以及各种寿命和规格的钽靶材和钽环;

　　2、提供钽环的翻新服务，为客户带来成本的节约。

　　特殊金属靶材，产品包括：高纯钨、钨钛、钨硅、高纯镍、镍合金、高纯铬、钴靶材等。.

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