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磁控溅射硅靶材_高纯硅靶材

溅射靶材 2020-07-07 11:03

磁控溅射硅靶材_高纯硅靶材

靶材名称:磁控溅射硅靶材 高纯硅靶材

纯度:99.99%

密度:2.4g/cm³

熔点:1410℃

晶粒度:均匀

形 状:环状、片状、圆片

靶材优势:纯度高,杂质少,相对致密度高,晶粒均匀,一致性高

应用领域:

1.硅主要用来制作高纯半导体、耐高温材料、光导纤维通信材料、有机硅化合物、合金等,被广泛应用于航空航天、电子电气、建筑、运输、能源、化工、纺织、食品、轻工、医疗、农业等行业。

2.硅可用来制作金属陶瓷复合材料,这种材料继承了金属和陶瓷的各自优点,同时还弥补了两者不足,具有耐高温、富韧性、可切割等优点。

3.高纯的单晶硅是重要的半导体材料,可制成二极管、三极管、晶闸管和各种集成电路(包括人们计算机内的芯片和CPU),还可以做成太阳能光伏电池。

4.硅与其他金属可以制成合金,以此来提升其金属性能。硅制成的合金主要包括:硅铝合金、硅铜合金、硅铁合金、硅锰合金等。

5.纯二氧化硅可拉制出高透明度的玻璃纤维,该纤维是光导纤维通信的重要材料,这种通信方式代替了笨重的电缆,通信容量高,不受电、磁干扰,不怕窃听,具有高保密性。

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