您好!材料商城是溅射靶材,ITO靶材,真空镀膜材料,半导体材料等高纯材料的一站式购物平台!

溅射靶材蒸镀材料介绍

溅射靶材 2020-06-11 10:53

溅射靶材蒸镀材料,性能优良、性价比高已成功批量于数码相机、投影电视、数码显示的各种光学系统中做蒸镀材料使用,并以每年50%的增量发展,年产量40吨以上,且80%以上的数量产品输往日本、台湾、欧洲和美国,销量并在逐年递增。

靶材的要求较传统材料行业高,靶材一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。

溅射靶材是一种新型的物理气相镀膜方式,较之较早点的蒸发镀膜方式,其很多方面的优势相当明显。靶材作为一项已经发展的较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域。

蒸发材料陶瓷颗粒

——本文由材料商城整理发布,如有侵权,请联系删除,谢谢!材料商城有靶材ITO靶材真空镀膜材料半导体材料高纯材料。材料齐全,专业生产,可按需定制,价格实惠,欢迎咨询,材料商城竭诚为您服务!

本文链接:https://www.atozmat.com/arc/1702.html 转载请注明出处,谢谢!

上一篇:靶材纯度和材质均匀性对大面积镀膜生产的影响

下一篇:ITO靶材的详细介绍优点用途以及四种成型方法