您好!材料商城是溅射靶材,ITO靶材,真空镀膜材料,半导体材料等高纯材料的一站式购物平台!

真空溅射靶材的信息介绍

溅射靶材 2020-06-29 15:49

真空溅射靶材的信息介绍,帮助大家更好的了解靶材行业的知识。

靶材技术指标:纯度:3-4N主要成分:ZnO:Al2O3=97:3[可根据用户要求调整Al2O3掺杂比(0-4)wt%]相对密度:d≥98%理论密度:ρ=5.6g•cm-3实际密度:ρ≥5.5g•cm-3致密性均一:从横断面看无白点或大颗粒2.镀膜性能:方块电阻:膜厚900nm左右时,方阻≤10Ω/□电阻率:ρ≤9×10-4Ω•cm可见光透过率:T≥80%3.溅射功率密度:目前国内镀膜设备适用功率3-4w•cm-2,在设备冷却系统好的情况下,最高功率可达10w•cm-24.可生产最大尺寸(mm):最大模具规格:L×W=334×272,现有L×W×H=330×135×12,160×135×12,160×135×9三种规格,厚度可根据客户要求生产。

铜背板铝合金靶材

——本文由材料商城整理发布,如有侵权,请联系删除,谢谢!材料商城有靶材ITO靶材真空镀膜材料半导体材料高纯材料。材料齐全,专业生产,可按需定制,价格实惠,欢迎咨询,材料商城竭诚为您服务!

本文链接:https://www.atozmat.com/arc/1803.html 转载请注明出处,谢谢!

上一篇:钼溅射靶材在TFT-LCD基板玻璃行业有什么应用?

下一篇:钛铝合金靶材制作方法介绍