磁控溅射靶材多弧铬靶材_圆饼铬靶材

靶材名称：磁控溅射靶材多弧铬靶材/圆饼铬靶材

材 质：铬

纯 度：99.5%—99.99%

晶 粒 度：＜100um

应用领域：工具镀膜、装饰镀膜

制作工艺：粉末装填热等静压成锭，机械处理和精密机械加工

靶材用途：真空镀膜，实验或研究级别用铬靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等。

靶材优点：真空装填，提纯制备，纯度高，杂质少；轧制致密，氧化少，成型可塑；相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高。

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