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磁控溅射靶材多弧铬靶材_圆饼铬靶材

溅射靶材 2020-06-28 17:02

磁控溅射靶材多弧铬靶材_圆饼铬靶材

靶材名称:磁控溅射靶材多弧铬靶材/圆饼铬靶材

材 质:铬

纯 度:99.5%—99.99%

晶 粒 度:<100um

应用领域:工具镀膜、装饰镀膜

制作工艺:粉末装填热等静压成锭,机械处理和精密机械加工

靶材用途:真空镀膜,实验或研究级别用铬靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等。

靶材优点:真空装填,提纯制备,纯度高,杂质少;轧制致密,氧化少,成型可塑;相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高。

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