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常见的陶瓷靶材有哪些

溅射靶材 2020-06-28 16:17

随着电子产业的发展,高技术材料逐渐向薄膜转移,镀膜期间随之发展迅速,靶材是一种具有高附加值的特种电子材料,是溅射薄膜材料的源极。陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料,已得到空前的发展,靶材市场规模日益膨胀。

不锈钢背管

国内的陶瓷平面靶材主要采用烧结及绑定工艺,可生产最大长度600mm,最大宽度400mmm,最大厚度30mm,圆角、斜边、台阶等异形根据客户要求加工。

常见的陶瓷靶材主要有:ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、二氧化锆靶,五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝、靶五氧化二钽、五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等。

钒靶

陶瓷靶材的种类:

B4C靶材

(1)按化学组成,可分为氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面显示ITO陶瓷靶材国内已广泛生产应用。高介电绝缘膜用陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材具有广阔的应用前景。

(2)按应用来分,可分为半导体关联陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、磁记录陶瓷靶材、光记录陶瓷靶材、超导陶瓷靶材、巨磁电阻陶瓷靶材等。

陶瓷靶材在现有的复杂电子产品制造中,只不过占工程的极少部分,但起到了信息产业基础先导材料的作用。我国电子信息产业发展很快,陶瓷溅射靶材的需求逐年增多,未来对陶瓷溅射靶材的研究和开发,是我国靶材供应商的一个重要的课题。

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