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制作钨靶材的方法

溅射靶材 2020-06-17 19:24

目前,采用现有的粉末冶金工艺制作的钨靶材的内部组织结构的均匀性和晶粒尺寸无法满足要求越来越高的溅射工艺。下面为大家介绍一种新型的制作钨靶材的方法。

氧化铟锡靶材

1.提供钨粉末,所述钨粉末的比表面积大于等于1.1mVg;

2.将钨粉末放入厚度为3mm-5mm的橡胶包套或厚度为2.5-3.0mm的铝包套并抽真空;

NiCrAlY

3.将所述橡胶包套或铝包套置于冷等静压炉内,采用冷等静压工艺将所述橡胶包套或铝包套内的钨粉末进行第一次致密化处理,形成第一钨靶材坯料,所述冷等静压的温度为常温,所述冷等静压的压力大于等于150MPa,并在所述冷等静压的压力下保压1小时-10小时;

4.第一次致密化处理后,去除所述橡胶包套或铝包套,采用感应烧结工艺将第一钨靶材坯料进行第二次致密化处理,形成第二钨靶材坯料,所述感应烧结工艺在感应烧结炉进行,将所述感应烧结炉进行抽真空处理至感应烧结炉的真空度小于等于10-1Pa,设置所述感应烧结炉的感应烧结温度为1700°C-1900°C,设置感应烧结炉的感应烧结升温速度为3°C/min-10°C/min;

陶瓷靶

5.并在此感应烧结温度下保温15小时-20小时;

6.第二次致密化处理后,采用热等静压工艺将第二钨靶材坯料进行第三次致密化处理,形成钨靶材。

以上所述热等静压工艺在热等静压炉中进行,将所述热等静压炉进行抽真空处理至热等静压炉的真空度小于等于lOOPa,设置所述热等静压炉的热等静压温度为1700°C-1900°C,设置所述热等静压炉的热等静压升温速度为3°C/min-10°C/min,设置热等静压炉的热等静压压力大于等于180MPa,并在所述热等静压温度和热等静压压力下保温2小时-5小时。

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