溅射靶材 2020-07-21 10:07
靶材名称:高纯平面打孔铬靶材 高品质铬靶材
材 质:Cr
纯 度:99.99%
晶 粒 度:<100um
应用领域:微电子领域、硅片制造、平面显示器、存储技术领域。
——本文由材料商城整理发布,如有侵权,请联系删除,谢谢!材料商城有靶材,ITO靶材,真空镀膜材料,半导体材料等高纯材料。材料齐全,专业生产,可按需定制,价格实惠,欢迎咨询,材料商城竭诚为您服务!
本文链接:https://www.atozmat.com/arc/1930.html 转载请注明出处,谢谢!
上一篇:简述射频溅射
下一篇:简述磁控溅射