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磁控溅射靶材_喷涂硅靶材_平面硅靶材

溅射靶材 2020-08-06 10:21

磁控溅射靶材_喷涂硅靶材_平面硅靶材

靶材名称:磁控溅射靶材 喷涂硅靶材 平面硅靶材

材质:硅

纯度:99.999%

晶粒度:<100μm

生产工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

靶材应用:工业级镀膜,实验或研究级别用硅靶材 Sitarget,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等。

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