您好!材料商城是溅射靶材,ITO靶材,真空镀膜材料,半导体材料等高纯材料的一站式购物平台!

溅射靶材性能特点

溅射靶材 2020-07-10 09:05

溅射靶材蒸镀材料,性能优良、性价比高已成功批量于数码相机、投影电视、数码显示的各种光学系统中做蒸镀材料使用,并以每年50%的增量发展,年产量40吨以上,且80%以上的数量产品输往日本、台湾、欧洲和美国,销量并在逐年递增。

溅射靶材是一种新型的物理气相镀膜方式,较之较早点的蒸发镀膜方式,其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域。

高纯铜靶材NiO靶材

——本文由材料商城整理发布,如有侵权,请联系删除,谢谢!材料商城有靶材ITO靶材真空镀膜材料半导体材料高纯材料。材料齐全,专业生产,可按需定制,价格实惠,欢迎咨询,材料商城竭诚为您服务!

本文链接:https://www.atozmat.com/arc/1887.html 转载请注明出处,谢谢!

上一篇:溅射靶材的的发展趋势

下一篇:锆靶材_各种规格锆靶材