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氧化锌铝靶材的制备方法

溅射靶材 2020-06-24 10:43

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。

高纯无氧铜

AZO是铝掺杂的氧化锌(ZnO)透明导电玻璃的简称,ZnO薄膜是一种重要的光电子信息材料,不仅具有与传统的ITO薄膜相比拟的光电性质,而且原料丰富,价格低,无毒性,热稳定性高,在太阳能电池、液晶显示器及光电探测器等领域有着广泛的应用前景。

氧化锌铝靶材的制备方法包括以下步骤:

高纯铜靶材

1、以锌盐和铝盐为原料,加纯水溶解,调pH至7.0~10.5,然后在水热条件下,控温90~140℃反应1.0~2.0小时;

高纯金蒸发料

2、过滤使产物和母液分离,用纯水洗涤、烘干,得到氧化锌铝粉体;

3、所得粉体在400~550℃煅烧2小时;

4、将所得粉体装入真空热压炉,抽真空1~100Pa,加压50~100MPa,然后慢慢升温,在1200~1400℃内保温烧结2~5小时,再缓慢降温,制得相对密度不低于95%的氧化锌铝(ZAO)陶瓷靶材。

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