靶材名称:真空溅射镀膜钛靶材 钛饼靶材
材 质:Ti
纯 度:99.99%
晶 粒 度:<100um
应用领域::航天(喷气发动机、导弹及航天器)、军事、工业程序(化工与石油制品、海水淡化及造纸)、汽车、农产食品、医学(义肢、骨科移植及牙科器械与填充物)、运动用品、珠宝及手机等等
——本文由材料商城整理发布,如有侵权,请联系删除,谢谢!材料商城有靶材,ITO靶材,真空镀膜材料,半导体材料等高纯材料。材料齐全,专业生产,可按需定制,价格实惠,欢迎咨询,材料商城竭诚为您服务!
本文链接:https://www.atozmat.com/arc/1937.html 转载请注明出处,谢谢!
上一篇:简述磁控溅射
下一篇:硼化物靶材及相关参数