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合金靶材的溅射原理

溅射靶材 2020-06-07 17:45

合金靶材的溅射原理:对溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。溅射镀膜又分为很多种,总体看,与的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld为例,因素主要有:靶材与基片的晶格匹配程度镀膜氛围(低压气体氛围)基片温度激光器功率脉冲频率溅射时间对于不同的溅射材料和基片,最佳参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否精确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。

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