靶材名称:厂家专业生产 铌靶材 铌溅射靶材
材料:铌
纯度:99.95%
晶粒度:<100μm
生产工艺:热轧,冷轧,碱洗,剪切而成。
靶材应用:微电子领域、硅片制造、平面显示器、存储技术领域。
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