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什么是反应溅射

溅射靶材 2020-07-21 10:29

在阴极溅射中,真空槽中需要充入气体作为媒介,使辉光放电得以启动和维持。最常用的气体是氩气。如果在通入的气体中掺入易与靶材发生反应的气体(如O2,N2等),因而能沉积制得靶材的化合物膜(如靶材氧化物,氮化物等化合物薄膜)。与真空蒸镀法相比,阴极溅射有如下特点:

1)结合力高;

2)容易得到高熔点物质的膜;

3)可以在较大面积上得到均一的薄膜;

4)容易控制膜的组成;

5)可以长时间地连续运转;

6)有良好的再现性;几乎可制造一切物质的薄膜。

磷酸铜LaB6靶材

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