溅射靶材的种类信息

溅射靶材 2020-07-02 14:28

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。

溅射靶材的种类：溅射靶材的种类相当多,即使相同材质的靶材又有不同的规格。靶材的分类有不同的方法,根据形状分为长靶,如ITO靶材(1400×900×6已焊接)、方靶如ITO靶材(300×300厚度可按用户的要求)、圆靶如Fe63Dy29Tb8靶(Φ75×10)、Fe54Tb46(Φ75×10);根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材(见表1),陶瓷化合物靶材根据化学组成不同可分为氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等陶瓷靶材,根据应用领域不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等(见表2);溅射靶材按应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、其他靶材。