您好!材料商城是溅射靶材,ITO靶材,真空镀膜材料,半导体材料等高纯材料的一站式购物平台!

靶材的主要性能要求有哪些

溅射靶材 2020-06-28 17:39

靶材的主要性能要求有哪些有哪些呢?对于靶材的纯度、杂质含量、密度的要求是什么呢?下面为大家简单的介绍一下。

密度:纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”,8“发展到12”,而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量:靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度:为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

太阳能镀膜靶材铜背板

——本文由材料商城整理发布,如有侵权,请联系删除,谢谢!材料商城有靶材ITO靶材真空镀膜材料半导体材料高纯材料。材料齐全,专业生产,可按需定制,价格实惠,欢迎咨询,材料商城竭诚为您服务!

本文链接:https://www.atozmat.com/arc/1796.html 转载请注明出处,谢谢!

上一篇:上海专业定制平面铜靶材

下一篇:平面靶材