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腔室条件对靶材成膜影响

溅射靶材 2020-06-12 09:18

今天我们来介绍大面积镀膜生产的影响的最后一个条件,腔室条件。我们上面所讲述到的质量、形状、结晶方向等都是靶材自身的问题,今天所讲到的因素与之前因素的最大区别就是它并不是靶材自身的问题,而是唯一的外界条件。

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下面小编就带领大家来详细了解一下腔室条件会对靶材成膜带来怎样的影响吧~

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腔体清洁干净不干净,或者生产时间过长,会导致腔室表面吸附了较多杂质,这些杂质会在生产过程中会出现不导电颗粒,并吸附着在靶材表面。溅射过程中电荷在凸起部分容易出现积聚,会导致结瘤越来越大,放电严重,从而也会影响到成膜的质量。同样,如果腔室存在微量漏气,反应生成的不导电溅射物也有可能附着在靶材表面成为结瘤,影响成膜效率和膜层均匀性。所以,腔室的条件对靶材的使用情况也有着非常重要的影响。

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积瘤初期通过纯氩烧靶很容易去除,但如果不做处理,积瘤会逐渐长大,并引起严重的打弧,影响生产。每次生产前应对靶材用强电流对靶材进行烧靶,以清理靶材表面的杂质。并定期对真空腔室进行打磨、吸尘及擦拭处理,对包网进行喷砂处理以去掉附着在上面的金属反应物,从而保证洁净的镀膜环境。

镀膜腔室的环境也会影响靶材的使用,从而影响成膜的质量。镀膜过程中,大家的注意力大部分会放在靶材自身,而忽视的腔室条件,所以有的时候镀膜不成功很大一部分的原因是因为这个。希望小伙伴们在看到这篇文章之后,能够将腔室条件重视起来!

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