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靶材厂家长期_多弧铬靶材_铬靶材

溅射靶材 2020-07-09 10:19

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靶材名称:靶材厂家长期 多弧铬靶材 铬靶材

材 质:Cr

纯 度:99.96%

晶粒度:<100μm

生产工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

应用领域:溅射镀膜 蒸发镀膜 实验或研究级别。通过磁控溅射、多户离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。

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