您好!材料商城是溅射靶材,ITO靶材,真空镀膜材料,半导体材料等高纯材料的一站式购物平台! 磁铁网站请访问:https://www.albmagnets.com/

PVD镀前清洗的基本程序

溅射靶材 2020-06-03 10:23

PVD镀前清洗的基本程序主要有几点,镀前要对污染物进行确认,分析。之后有针对性的对清洗方法确定,再之后按清洗程序进行清洗。

1.污染物的确认

清洗前了解和确定被清洗基体表面污染物的性质是清洗工艺中的第一步。根据污染物和基体的性质,确定采用哪种清洗方法,或采用多种方法进行多级清洗,以达到最佳清洗效果。

2.清洗方法的确定

金属镀件表面清洗可采取如前所述的各类方法来完成。但是,没有—种方法具有人们所希望的全部特点(简单、成本低、有效等),经常为了达到最佳清洗效果,必须联合合使用多种方法。

3.清洗程序

不管用哪一种清洗方法还是联合使用多种方法,清洗时都必须按一定顺序进行操作。但是同一种清洗方法的清洗程序也并不一定相同。要根据清洗要求和清洁等级程序来确定具体的清洗程序。对于批量处理,可建立流程图。

PVD金属镀件清洗工艺流程一般为去油→去污→流水冲洗→去离子水冲洗→脫水→装入真空镀膜室。

去油。可用肥皂水、金属清洗剂和脱脂清洗剂等,按镀件情况,配制成不同含量的水基溶液来清洗。清洗分三个超声波清洗槽,每个槽里的清洗剂含量应逐渐降低。清洗时清洗框或架要上下移动,每分钟10次左右,每槽清洗时间2.5~3min。

去污。去除镀件表面残存的油脂、杂质和清洗剂。用清水或流动水清洗。

清水清洗。清洗可分三个槽,第一个槽不用超声波,只用清水喷淋,时间2.5~3min。第二、第三个槽用超声波清水清洗,时间2.5~3min。清水清洗之后,再用碱溶液喷淋清洗。用50~60℃、1%~2%的NaOH碱溶液和活性剂喷淋清洗3~4min,进一步净化镀件表面。

去离子水清洗。清洗也分三个槽,第一 第二槽为50-60℃去离子纯净水,超声波上下移动清洗,时间2.5~3min,以去除碱液和其他杂质。第三个槽为50~60℃去离子纯净水,浸一泡1~2min,提出滴净余水。

脱水。用热风吹8~10min,要保证所有镀件完全干燥。

4.非金属材质镀件清洗

1)玻璃陶瓷件的清洗

玻璃陶瓷件最常用的清洗方法是溶剂清洗法。玻璃陶瓷件的预清洗,通常是在清洗液中浸泡清洗开始,并辅以涮洗、擦拭或超声波皮搅动,然后用去离子水(软化纯净水)或无水乙醇(酒精)冲洗。重要的是,当清洗后的部件干燥时,不允许溶液沉淀物留在部件的表面上,因为去除沉淀物常常是困难的。

2)有机玻璃及塑料的清洗

有机玻璃和塑料的清洁需要特殊的技术处理,因为它的热稳定性和机械稳定性都循艮低。低分子量碎粒、表面油脂、手汗指纹等,都可覆盖在有机玻璃或塑料的表面上。

大多数污染物可以用含水的洗涤剂洗掉,或者用其他的溶剂清除。应注意的是,用洗涤剂. 或溶剂清洗的时间不能过长,以免它们被吸附到聚合物结构中,促使其膨胀,并可能在于干燥时开裂。因此在清洗中尽可能伴以软性液体浸泡和冲洗。

另外,在真空镀膜室内,恰当的辉光放电轰击及辐射处理对塑料和有机玻璃的表面有好处,这种处理除了使表面产生微观粗糙外,还可以引起表面的化学活化作用和交联。特别是交联作用对表面有利,它既可以增加聚合物的表面强,又可以减少有害的低分子量成分的量。

因此,选择合适的清洗液,较短的清洗时间,以及真空室中的辉光放电离子轰击或辐射的能量限度,对取得最佳清洁结果都是重要的。

——本文由材料商城整理发布,如有侵权,请联系删除,谢谢!材料商城有靶材ITO靶材真空镀膜材料半导体材料高纯材料。材料齐全,专业生产,可按需定制,价格实惠,欢迎咨询,材料商城竭诚为您服务!

本文链接:https://www.atozmat.com/arc/1592.html 转载请注明出处,谢谢!

上一篇:ito靶材公司

下一篇:镀膜的应用有哪些呢?

  • 专业生产 品质保障
  • 按需定制 材料齐全
  • 放心购物 急速配送
  • 贴心服务 售后无忧