高纯溅射镀膜钛合金靶材_圆饼钛靶材

靶材名称：高纯溅射镀膜钛合金靶材 圆饼钛靶材

材 质：Ti

纯 度：99.99%

晶 粒 度：<100um

应用领域：真空镀膜，实验或研究级别用钛靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等

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